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PCE-80是一款較大型的等離子清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等）。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實驗幫手。

小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Φ160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。

PDC-001是一款腔體尺寸較大的等離子清洗機，其等離子腔體尺寸為 6“dia x 6.5“。特別適合對有機物和基片表面進行清洗，同時可以向腔體通入不同的氣體（如氧氣和惰性氣體等），從而產(chǎn)生不同氣氛的等離子體以滿足實驗需要。在高射頻工作狀態(tài)下起表面臟物移出速率高達20nm/min.對于在薄膜生長前對基片進行預(yù)處理，此款設(shè)備極為理想。

GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動控制的樣品臺，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學元件和塑料等，也可在常壓下進行等離子

VGT-1620QTD 超聲波清洗器用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等民用家居等領(lǐng)域，而且已拓展到機械、紡織、電子、化纖、石油化工、醫(yī)藥、大專院校、科研實驗室、超硬材料及軍工等行業(yè)或部門，可以清理一般工具達不到的的地方，實現(xiàn)無損傷清洗，是科研生產(chǎn)人員的好助手。