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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動(dòng)管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達(dá)到1200℃。兩個(gè)爐體可在滑軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)原材料的蒸發(fā)/升華，及薄膜沉積。通過爐體的滑動(dòng)可實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品快速加熱，Z大升溫速率為100℃/min.同時(shí)可選擇電動(dòng)滑軌、質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，外形小巧，性價(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵。
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對(duì)于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物。此款儀器有三個(gè)主要模塊組成：超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個(gè)步驟：前驅(qū)體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統(tǒng)是一款非常先進(jìn)的合成系統(tǒng)，可控制器顆粒尺寸，形態(tài)，納米/微粒結(jié)構(gòu)。
GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認(rèn)證的立式真空管式淬火爐，標(biāo)配有直徑60mm的莫來石管和一個(gè)用于樣品淬火的液體密封容器。該設(shè)備實(shí)驗(yàn)時(shí)可以使樣品從高溫環(huán)境下（Z高1700度）快速落入冰水或油中，非常適合用于研究材料相變和微結(jié)構(gòu)性能。
OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm，帶有滑軌法蘭的管式爐，Z高工作溫度為1200℃，此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統(tǒng)而設(shè)計(jì)。
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