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GSL-1200X-H8管式爐擁有三個(gè)獨(dú)立控制的加熱區(qū)，爐管材料為SS310不銹鋼，Z高工作溫度為800℃。此款管式爐專門設(shè)計(jì)為樣品在流動(dòng)的氫氣氣氛或高真空環(huán)境下（Z高真空度可達(dá)10E-5 tor）對(duì)材料進(jìn)行熱處理。此管式爐的密封采用高真空CF法蘭，并配有自動(dòng)點(diǎn)火器和氫氣探測(cè)器，使得實(shí)驗(yàn)地安全。

OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區(qū)濕度可控氫氣熱處理爐，此設(shè)備帶有兩通道氣體控制器，氣液混合罐，露點(diǎn)儀和氫氣探測(cè)器，此設(shè)備專門設(shè)置對(duì)材料進(jìn)行濕氫處理，以達(dá)到材料表面部分氧化，同時(shí)也進(jìn)行各種CVD實(shí)驗(yàn)。精密露點(diǎn)儀測(cè)量精度可以達(dá)到 +/-1.5%RH。若有實(shí)驗(yàn)中發(fā)生氫氣微露現(xiàn)象（氫氣爆炸點(diǎn)的10%），3M公司的氫氣探測(cè)器將發(fā)生報(bào)警信號(hào)，使整個(gè)實(shí)驗(yàn)在安全的環(huán)境下進(jìn)行。

OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐針對(duì)于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實(shí)驗(yàn)，其鍍膜面積可達(dá)到5“x5“。

OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片（Z大達(dá)3“）的退火而設(shè)計(jì)，采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制，精度為 +/-1°C. 計(jì)算機(jī)通過RS485口和控制軟件實(shí)時(shí)控制爐子和顯示溫度曲線 。

OTF-1200X-50-SL是一款CE認(rèn)證的可滑動(dòng)管式爐，配置外徑50x 1000mm石英管，工作溫度Z高達(dá)1200°C。爐底安裝一對(duì)滑軌，可滑動(dòng)。加熱和冷卻速率Z大可達(dá)100°C/m。為取得Z快加熱，可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動(dòng)爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動(dòng)爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到15°C/s，是低成本快速熱處理的理想。

OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。