OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器高溫度可以達(dá)到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現(xiàn)對原材料的蒸發(fā)/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現(xiàn)對樣品快速加熱,大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質(zhì)量流量計(MFC)控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。
技術(shù)參數(shù)
爐體結(jié)構(gòu)
| - 兩個爐體在一個滑動軌道上,爐體高工作溫度1200℃
- 每個爐體加熱區(qū)為200mm,恒溫區(qū)為60mm
- 一個滑動軌道安裝在兩爐體底部,可手動推動爐體滑動
- 儀器中配有不銹鋼密封法蘭
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總功率 | 2.5KW |
電壓 | AC 208-240V 單相, 50/60 Hz, (需要20A的空氣開關(guān)) |
高工作溫度 | 1200℃ |
連續(xù)工作溫度 | 1100℃ |
加熱&冷卻速率
| 加熱速率: 15°C/sec (RT - 150°C); 10°C/sec (150°C - 250°C); 7°C/sec (250°C - 350°C); 4°C/sec (350°C - 500°C); 3°C/sec (350°C - 550°C); 2°C/sec (550°C - 650°C); 1°C/sec (650°C - 800°C); 0.5°C/sec (800°C - 1000°C); | 冷卻速率: 15°C/sec (1000 - 950°C); 10°C/sec (950°C - 900°C); 7°C/sec (900°C - 850°C); 4°C/sec (850°C - 750°C); 2°C/sec (750°C - 600°C); 1.5°C/sec (600°C - 500°C); 1°C/sec (500°C - 400°C); 0.5°C/sec (400°C - 300°C); | 注意: 大加熱和冷卻速率是通過爐體滑動來實現(xiàn)的,將爐體加熱到目標(biāo)溫度,然后滑動爐體到樣品位置來實現(xiàn)快速加熱。對樣品加熱后,滑動爐體,使樣品暴露在加熱區(qū)外,來實現(xiàn)快速冷卻 |
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加熱區(qū)長度 | 每個爐體的加熱區(qū)為200mm |
恒溫區(qū) | 60 mm (+/-1°C @ 400-1200°C) |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金 |
爐管 | - 高純石英管
- 尺寸:50mm O.D x 44mm I.D x1400 mmL
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溫度控制系統(tǒng) | - 兩個爐體都采用PID方式來調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升降溫程序。
- 控溫儀表操作視頻
- 設(shè)置有超溫和斷熱偶報警
- 包括2個K型熱電偶(已安裝在爐體上)
- 可選:可選擇控制模塊MTS-02,可使用電腦來控制爐體的升降溫
(點擊圖片查看詳細(xì)資料)
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真空法蘭 | - 儀器中包含一對不銹鋼密封法蘭,法蘭上安裝有機械壓力表
- 可選購KF25接口的法蘭(提高抽氣速率),數(shù)顯真空計
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滑軌長度 | 1200mm |
真空度 | - 10E-5 torr(采用分子泵)
- 10E-2 torr(采用機械泵)
- 可在本公司選購真空泵
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可選 | - 可選擇電動滑軌,更好的控制快速升降溫速率
- 1-9通道質(zhì)量流量計(MFC)控制的供氣系統(tǒng)
- 100W-500W的射頻等離子源
- 這些模塊與管式爐配合可搭建起等離子增強的TCVD系統(tǒng)
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尺寸 | 1500 x 380 x 620 mm(爐體+滑軌) |
凈重 | 約80kg |
質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期,終身維護(hù)(不包括爐管、密封圈和加熱元件) |
質(zhì)量認(rèn)證 | - CE認(rèn)證
- 所有電器元件(輸入電壓>24V)都通過了UL/MET/CSA認(rèn)證
- 本公司保證此設(shè)備通過TUV(UL61010)或CSA認(rèn)證(需額外出認(rèn)證費用)
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使用注意事項 | - 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
- 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加安全
- 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM
- 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)
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