高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

相關(guān)文章ARTICLES

詳細(xì)介紹

主要特點(diǎn)：

1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品咨詢

国产日韩精品无码区免费专区国产,亚洲精品视频在线观看,91精选,亚洲欧洲无码一区二区三区

高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。