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詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 化工 |
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旋轉(zhuǎn)速度范圍 | 20-5000rpm | 加速度范圍 | 20-20000rpm/s |
轉(zhuǎn)速精度 | ±1rpm | 熱盤溫度范圍 | 50℃-200℃ |
熱盤溫度均勻性 | ±1% | 冷盤溫度范圍 | 20°℃-25°℃ |
冷盤溫度均勻性 | ±0.2℃ | 光刻膠粘度 | 0-1000Cp(可選高粘度光膠機臺) |
膠泵類型 | 氣動或電動膠泵 | 光刻膠或顯影液管路 | ≤3路 |
設備尺寸 | 1860mm(W)x1700mm(D)x2100mm(H) |
大型勻膠/顯影機
顯影是指用還原劑把軟片或印版上經(jīng)過曝光形成的潛影顯現(xiàn)出來的過程。PS版的顯影則是在印版圖文顯現(xiàn)出來的同時,獲得滿足印刷要求的印刷版面和版面性能。顯影機是將曬制好的印版通過半自動和全自動的程序?qū)@影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設備。
產(chǎn)品介紹
適用于2至6英寸晶圓的勻膠顯影工藝
最大設備配置:4套勻膠(顯影)、10套熱(冷)板單元
6寸以下wafer全自動勻膠/顯影,烘烤全自動工藝處理
整機適合產(chǎn)能要求較高的批量產(chǎn)線
根據(jù)客戶工藝需求可加裝溫濕度控制、離子風棒等模塊
可選配MES協(xié)議轉(zhuǎn)換模塊
產(chǎn)品參數(shù)
旋轉(zhuǎn)速度范圍:20-5000rpm
加速度范圍:20-20000rpm/s
轉(zhuǎn)速精度:±1rpm
熱盤溫度范圍:50℃-200℃
熱盤溫度均勻性:±1%
冷盤溫度范圍:20°℃-25°℃
冷盤溫度均勻性:±0.2℃
光刻膠粘度:0-1000Cp(可選高粘度光膠機臺)
膠泵類型:氣動或電動膠泵
光刻膠或顯影液管路:≤3路
流量監(jiān)控:浮子式流量計(可選配超聲流量計)
設備尺寸:1860mm(W)x1700mm(D)x2100mm(H)
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