一般來說高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫，使其以原子團或者離子的形式被蒸發(fā)出來，然后在將基片防于真空倉中讓這些原子團或離子沉淀在基片之上，在沉淀的過程中我們還能通過我們的需要來改變靶材的沉淀情況。
　　在線光密度檢測儀能真空鍍膜生產的過程中進行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測；選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜，靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質，鍍膜生產過程中我們可以使用透光率光密度檢測儀來進行在線測試，通過光譜里的紅外線透過率、紫外線透過率以及可見光穿透率來進行監(jiān)控感應鍍膜的均勻性。
　　那么具體影響基片上的靶材厚度是否均勻的因素有哪些呢？
　　首先對基片上的膜厚度就算是同一種物質都會出現分子結構不同的情況，而真空鍍膜簡單說來就是在一種物質覆蓋另一種物質，如果這兩種物質的分子結合能夠很好的鑲嵌在一起，那么對真空鍍膜情況肯定是有很大好處的，反之亦然。
　　然后基片表面的溫度也是會影響真空鍍膜厚度是否均勻的；基片的溫度越高則鍍膜效果越好，當然在真空鍍膜的時候也會純在一些特殊的材料，它們的鍍膜情況則是基片溫度越低鍍膜效果會更好。
　　另外，真空鍍膜機的蒸發(fā)功率和速率也是影響真空鍍膜情況一個較大的因素，這個因素想要改變的話只能在真空鍍膜機上改善，因此想要通過加大真空鍍膜設備的蒸發(fā)功率來改變鍍膜情況是比較困難的。
　　zui后真空鍍膜的時間和所需鍍膜的厚度也是會影響到鍍膜是的均勻行的一個因素。所以zui有效的辦法還是通過目前專業(yè)技術的光學檢測儀器，通過在線光密度檢測儀的光接觸來連續(xù)測試鍍膜厚度的均勻性是否達到標準。